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風華高科獲得兩項國內授權發(fā)明專利

更新時間:2023-12-08 08:20:23 發(fā)布人:風華高科 品牌:風華(FH) 瀏覽量:1873

近期,公司獲得兩項國內授權發(fā)明專利,分別為《ZL202010759560.0一種阻漿精準配比方法、介質及終端設備》和《ZL202110946690.X一種銅漿及其制備方法與應用》。截至目前,風華高科已累計獲得授權專利602件,其中發(fā)明專利306件。

風華貼片電容材料制備專利

《一種阻漿精準配比方法、介質及終端設備》

該專利公開了一種阻漿精準配比方法,對不同的配比范圍設置對應的曲線方程式,通過建立精準的數(shù)學模型,可以精準計算出所需阻值的配比數(shù)值,實現(xiàn)免試漿料,從而減少配漿生產(chǎn)周期70%以上,降低人工成本30%以上。

 

該專利涉及銅端電極漿料配方及制備方法與應用,該方法制備的銅漿適用于MLCC超大規(guī)格或超小規(guī)格貼片電容,比傳統(tǒng)MLCC銅端電極漿料使用浸封工藝平整好,可靠性高。

風華高科始終堅持科技創(chuàng)新,注重主營產(chǎn)品的知識產(chǎn)權的挖掘與布局,努力提升企業(yè)技術競爭優(yōu)勢,不斷提升企業(yè)知識產(chǎn)權創(chuàng)造、保護、運用、管理的能力,使技術創(chuàng)新成果與知識產(chǎn)權保護無縫結合,增加產(chǎn)品附加值,著力提升企業(yè)核心競爭力,逐步鞏固提升市場地位和競爭優(yōu)勢。